Skip to main content
Log in

Influence of impurity doping on free-exciton absorption in silicon

Влияние примесных присадок на поглощение, связанное со свободными экситонами, в кремнии

  • Published:
Il Nuovo Cimento B (1971-1996)

Summary

The influence of impurity doping on the free-exciton absorption spectrum of silicon has been investigated by using a wavelength modulation technique. The differential absorption spectra of doped silicon indicate that the free-exciton components are significantly modified by doping of shallow donor impurities together with the appearance of the sharp bound-exciton components. These newly observed free-exciton absorption components are interpreted in terms of free-exciton two-electron transitions.

Riassunto

Si analizza l’influenza del drogaggio da impurezza sullo spettro di assorbimento dell’eccitone libero nel silicio per mezzo di tecniche di modulazione in lunghezza d’onda. Gli spettri di assorbimento differenziale del silicio drogato indicano che le componenti da eccitone libero sono modificate in modo significativo del drogaggio con impurezze donori poco profonde e che appaiono marcate componenti da eccitone legato. Queste componenti da assorbimento di eccitone libero di nuova osservazione sono interpretate in termini di transizioni a due elettroni tra eccitoni liberi.

Резюме

Исследуется влияние примесных присадок на спектр поглощения, связанного со свободными экситонами, в кремнии, используя технику модуляции длины волны. Дифференциальные спектры погощения для кремния с присадками указывают, что компоненты, связанные со свободными экситонами, существенно изменяются при добавлении неглбоких донорных примесей, вместе с появлением резких компонент связанных экситонов. Эти впервые обнаруженные компоненты поглощения, свзанного со свободными экситонами, интерпретируются в терминах двухэлектронных переходов свободных экситонов.

This is a preview of subscription content, log in via an institution to check access.

Access this article

Price excludes VAT (USA)
Tax calculation will be finalised during checkout.

Instant access to the full article PDF.

Similar content being viewed by others

Footnotes

  1. K. L. Shaklee andR. E. Nahory:Phys. Rev. Lett.,24, 942 (1970).

    Article  ADS  Google Scholar 

  2. T. Nishino, M. Takeda andY. Hamakawa:Sol. State Comm.,12, 1137 (1973).

    Article  ADS  Google Scholar 

  3. T. Nishino, M. Takeda andY. Hamakawa:Sol. State Comm.,14, 627 (1974).

    Article  ADS  MATH  Google Scholar 

  4. T. Nishino andY. Hamakawa:Sol. State Comm.,16, 1105 (1975).

    Article  ADS  Google Scholar 

  5. T. Nishino andY. Hamakawa:Phys. Rev. B,12, 5771 (1975).

    Article  ADS  Google Scholar 

  6. P. J. Dean, J. R. Haynes andW. F. Flood:Phys. Rev.,161, 711 (1967).

    Article  ADS  Google Scholar 

  7. R. Sauer:Phys. Rev. Lett.,31, 376 (1973).

    Article  ADS  MATH  Google Scholar 

  8. K. Kosai andM. Gershenzon:Phys. Rev. B,9, 723 (1974).

    Article  ADS  Google Scholar 

Download references

Author information

Authors and Affiliations

Authors

Additional information

Paper presented at the «Taormina Research Conference on Recent Developments in Optical Spectroscopy of Solids» held in Taorimina, September 1976.

Traduzione a cura della Redazione.

Переведено редакцией.

Rights and permissions

Reprints and permissions

About this article

Cite this article

Nishino, T., Nakayama, H. & Hamakawa, Y. Influence of impurity doping on free-exciton absorption in silicon. Nuov Cim B 39, 494–499 (1977). https://doi.org/10.1007/BF02725782

Download citation

  • Received:

  • Published:

  • Issue Date:

  • DOI: https://doi.org/10.1007/BF02725782

Navigation