Kathodenzerstäubung bei sehr geringen Gasdrücken

Zusammenfassung

Es wird eine Kathodenzerstäubung von Silber und Kupfer in He, Ne, Ar, H₂, N₂ bei Spannungen bis 1200 Volt und so geringen Drucken untersucht, daß praktisch keins der zerstäubenden Atome zur Kathode zurückgelangt. Experimentell zeigt sich, daß das bei den Dimensionen des benutzten Zerstäubungsgefäßes in Argon schon bei Drucken unterhalb 0,01 mm der Fall ist. Denn unterhalb dieser Drucke wird die zerstäubte Menge vom Druck unabhängig. Das Verfahren der Zerstäubung besteht darin, daß die erforderlichen Kationen aus einer Glühkathodenentladung von etwa 3 Amp. herausgezogen und gegen die Zerstäubungskathode beschleunigt werden. An der Zerstäubungskathode besteht also eine Langmuirsche Entladung. Da in der vorhergehenden Arbeit untersucht worden ist, welcher Bruchteil des Gesamtstromes von Kationen transportiert wird, läßt sich der Wirkungsgrad der Zerstäubung berechnen. Es zeigt sich, daß reines Helium bei Spannungen bis 800 Volt überhaupt keine Zerstäubung hervorruft. (Bei höheren Spannungen wurden keine Versuche durchgeführt.) In den anderen Gasen beträgt der Wirkungsgrad der Zerstäubung für kleinere Spannungen bei

$$\begin{gathered} Cu in Ar . . . . . . . . 1,05\% \hfill \\ Ag in H_2 . . . . . . . . 0,30 \hfill \\ Ag in N_2 . . . . . . . . 0,89 \hfill \\ Ag in Ne . . . . . . . . 0,89 \hfill \\ Ag in Ar . . . . . . . . 1,32 \hfill \\ \end{gathered} $$

Der Wirkungsgrad der Zerstäubung ist also recht sohlecht. Mit steigender Spannung nimmt er etwas ab.