Modellierung von VLSI-Entwurfsobjekten

Zusammenfassung

Nachdem wir in Kapitel 4 eine Übersicht über den Stand der Forschung zu den wichtigsten Problemen der Datenhaltung von VLSI—Entwurfsdaten gegeben haben, soll in diesem Kapitel die Modellierung von VLSI-Entwurfsobjekten ausführlich behandelt werden. Wir werden dabei auf Konzepte zurückgreifen, die von D.S. Batory und W. Kim vorgeschlagen wurden [Batory, Kim 1985]. Die Konzepte des Batory/Kim—Modells zeichnen sich zum einen dadurch aus, daß im Objektmodell das Versionskonzept integriert ist, zum anderen sind sie sehr stark an den speziellen Erfordernissen des VLSI—Entwurfs orientiert. Dies drückt sich u.a. darin aus, daß Datenstrukturen des Datenaustauschformats EDIF ihren Niederschlag im Objektmodell gefunden haben. Darüberhinaus wird für die einzelnen Modellierungskonzepte auch deren Umsetzung in ein relationales Schema angegeben [Batory, Buchmann 1984], so daß sich das Batory/Kim—Modell auch dazu eignet, die Realisierung eines mächtigen Objektmodells mit Hilfe eines relationalen Datenbanksystems zu demonstrieren.