Zusammenfassung
Die Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse ist eine energiedispersive, zerstörungsfreie Methode zur Multielementanalyse; in der Halbleiterindustrie typischerweise zur Bestimmung von Metall-kontaminationen auf Waferoberflächen genutzt. Dabei trifft die zur Fluoreszenzanregung verwendete, monochromatische und parallelisierte Röntgenstrahlung unterhalb des Grenzwinkels der Totalreflektion auf die Probenoberfläche bzw. einen optisch polierten Probenträger. Die Fluoreszenzstrahlung des Probenmaterials wird energiedispersiv detektiert und Elementen zugeordnet.
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Bauch, J., Rosenkranz, R. (2017). TXRF - Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse. In: Physikalische Werkstoffdiagnostik. Springer Vieweg, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-662-53952-1_33
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