Zusammenfassung
Es wird die Abscheidung von harten verschleiβfesten Schichten mit dem Plasma-CVD-Verfahren beschrieben. Dazu wurde eine herkommliche Plasma-Nitrieranlage mit der Gasversorgung einer CVDAnlage erweitert. Unter Verwendung von Titantetrachlorid als Titanspendermedium wurden Titannitridschichten erhalten. Schichtaufbau und -zusammensetzung wurden in Abhängigkeit von den Verfahrensparametern untersucht und die Härte der Schichten (nach Vickers) sowie die kritische Last (im Ritztest) bestimmt. Unter Verwendung von Titantetraisopropylat konnten halogenfreie Hartstoffschichten vom Typ Ti(O,C,N) erhalten werden. Diese Schichten zeigen trotz ihres Sauerstoffgehaltes die gleiche kubische Kristallstruktur wie die bekannten TiN- oder TiC-Schichten. Auch hier wurden Zusammensetzung, Struktur und Morphologie in Abhängigkeit von den Verfahrensparametern bestimmt. Neben der Bestimmung der mechanischen Eigenschaften wurden Verschleiβ- und Korrosionstests an den Schichten durchgeführt.
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Literaturverzeichnis
S. Veprek et al.; J. Crystal Growth 9 (1971),266
DBP 2144238 vom 3.9.1971
F.J. Hazlewood, P.C. Iordanis; Proc. Conf. Ion Plating Applied Techniques (1977),243
T. Wierzchon et al.; Härt. Techn. Mitt. 34 (1979),168
T. Wierzchon et al.; Industrial Heating June 1985,17
T. Wierzchon: Proc. 5th Europ. Conf. CVD (1985),371
T. Wierzchon et al.: 5th Intern. Congr. Heat Treatm. (1986),1387
J. Michalski et al.: 5th Intern. Congr. Heat Treatm. (1986),1396
M. Konuma et al.; J. Less-Common Metals 75
N.J. Archer: Thin Solid Films 80 (1981),221
H.I. Philip, D.J. Schiffrin: Proc. Conf. Ion Assisted Surface Treatments (1982),21.1
Li Shizhi et al.: Plasma Chemistry & Plasma Processing 4 (1984) ,147
Y. Funaki et al.: J. Met. Finish. Soc. Jpn. 35 (1984),595
N. Kikuchi et al.: Proc. 9th Int. Conf. CVD (1984),728
A. Ikegaya et al.: Proc. 5th Europ. Conf. CVD (1985),45
Shen Qi-Xian et al: Proc. 5th Europ. Conf. CVD (1985),328
R. Makabe et al.: Thin Solid Films 80 (1981),L49
K.-T. Rie et al.: Härt. Techn. Mitt. 42 (1987),153
K.-T. Rie et al.: Proc. 6th Europ. Conf. CVD (1987),311
M.R. Hilton et al: Thin Solid Films 139 (1986),247
M.R. Hilton et al: J. Vac. Sci. Technol. A 4(1986),2797
T. Arai et al: Proc. 6th Conf. IPAT (1987),196
M. Hoch: Anisotropy in Single Crystal Refractory Compounds (1968),163
H. Holleck: Binäre und ternäre Carbid- und Nitridsysteme der Obergangametalle, Stuttgart, 1984
J.M. Molarius et al.: J. Vac. Sci. Technol. A 3(1985),2419
K.G. Geraghty, L.F. Donaghey; J. Electrochem. Soc. 123 (1976),1201
S. Kim, R.S. Williams: J. Vac. Sci. Technol. A 4(1986), 1603
G. Neumann et al.; Monatshefte f. Chemie 103(1972),1130
O. Schmitz-Dumont, K. Steinberg: Die Naturwissenschaften 41(1954),117
W. Grossklaus, R.F. Bunshah; J. Vac. Sci. Technol. 12 (1975),593
W.D. Sproul, M.H. Richman; Thin Solid Films 28(1975), L39
W.W. Carson: J. Vac. Sci. Technol. 12(1975),845
N.Kikuchi et al.; Proc. 6th Int. Conf. CVD (1977),403
H.E. Hintermann, H. Boving: Die Technik 33(1978),387
T. Sadahiro et al.; Wear 481978),291
B. Fark et a1.; Thin Solid Films 109(1983)193
N.P. Sub: Wear 62(1980),1
O. Knotek et al.: J. Vac. Sci. Techno1. A 5(1987), 2173
W.W. Carson et a1.; J. Engin. f. Industry Feb.1976, 279
J.T.K. Clark et a1.; Proc. 4th Europ. Conf. CVD (1983), 385
K.J. Sladek, W.W. Gibert: Proc. 3rd Int. Conf. CVD (1972),215
S. Pakswer, P. Skoug; Proc. 2nd Int. Conf. CVD(1970), 619
M. Balog et a1.: J. Crystal Growth 17(1972),298
F. Skaupy: Deutsches Reichspatent Nr. 600374 (1934)
N.J. Archer: Proc. 5th Int. Conf. CVD (1975),556
G. Pauer et a1.; Int. J. Refract. Bard Met. 5(1986), 165
T. Takahashi et a1.: J. Crystal Growth 47(1979),245
J.A. Sheward, W.J. Young: Proc. th Conf. IPAT (1985), 107 und Vacuum 36(1986),37
K. Sugiyama et al.: J. E1ectrochem. Soc. 122 (1975),1545
J.-E. Sundgren et al.; Thin Solid Films 105 (1983),353
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Stock, HR., Mayr, P. (1988). Untersuchung der Gebrauchseigenschaften von Stahlbauteilen, die mit Titanoxicarbonitrid mittels Plasma-CVD-Technik bei Temperaturen unter 550ºC beschichtet wurden. In: Günther, R., Haag, H. (eds) TRIBOLOGIE: Reibung · Verschleiß · Schmierung. Dokumentation zum Forschungs- und Entwicklungsprogramm des Bundesministeriums für Forschung und Technologie (BMFT), vol 12. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-83558-2_11
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