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Basismechanismen zur Kooperation beim parallelen VLSI-Entwurf

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Entwurf und Betrieb verteilter Systeme

Part of the book series: Informatik-Fachberichte ((INFORMATIK,volume 264))

Überblick

Der Entwurf komplexer hochintegrierter Schaltkreise erfolgt nach bestimmten Entwurfsmethoden, die eine mehr oder weniger starke Strukturierung des gesamten Entwurfsablaufes vorschreiben. Wie am Beispiel einer konkreten VLSI-Entwurfsumgebung aufgezeigt, können Teile eines solchen Entwurfsablaufes, also Teilabläufe oder einzelne Entwurfsschritte, voneinander unabhängig und parallel abgewickelt werden. Andere Teilabläufe sind voneinander abhängig und erfordern eine strikt sequentielle Durchführung. Daneben gibt es eine ganze Reihe von Entwurfsschritten, die zwar untereinander in Beziehung stehen, aber dennoch eine kontrolliert parallele Bearbeitung erlauben. Die zwischen den parallel ausgeführten Entwurfsschritten auftretenden Wechselwirkungen haben ihre Ursache hierbei in einem gemeinsamen Ziel, nämlich der Entwicklung eines übergeordneten VLSI-Entwurfsobjektes, und in der Erkenntnis, daß dieses Ziel gemeinsam, also kooperativ am “schnellsten” oder am “besten” erreicht werden kann. Gegenstand der Kooperation sind die Entwurfsobjekte bzw. vorläufige und unvollständige Komponenten davon, so daß die Kontrolle der kooperierenden Abläufe besondere Anforderungen an die Entwurfsdatenhaltung stellt.

In dem vorliegenden Beitrag werden Basismechanismen vorgestellt, die eine Zerlegung der Entwurfsabläufe in Entwurfschritte und deren parallele Abwicklung in einer verteilten und heterogenen Systemumgebung ermöglichen. Besonderes Gewicht wird auf die Konzepte der Kooperationskontrolle gelegt. Die Anwendbarkeit der eingeführten Mechanismen wird an Beispielen aus der betrachteten VLSI-Entwurfsumgebung diskutiert.

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Hübel, C., Käfer, W., Pahle, H., Siepmann, E. (1990). Basismechanismen zur Kooperation beim parallelen VLSI-Entwurf. In: Härder, T., Wedekind, H., Zimmermann, G. (eds) Entwurf und Betrieb verteilter Systeme. Informatik-Fachberichte, vol 264. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-76309-0_15

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