Zusammenfassung
Teilchenstrahlgestützte Verfahren werden erst seit Mitte der 70er Jahre in der modernen Oberflächen- und Dünnschichttechnologie eingesetzt. Die Entwicklung der hierfür meist benötigten großflächigen Ionenquellen wurde ursprünglich durch Raumfahrtprogramme der NASA und anderer Organisationen Ende der 50er Jahre eingeleitet [6-1 bis 6-3]. Daneben wurden großflächige Ionenstrahlbündel bereits ab etwa 1960 für Grundlagenuntersuchungen zum Sputterprozeß [6-4] oder zum Ionenstrahlätzen unterschiedlicher Materialien [6-5] eingesetzt.
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Oechsner, H., Waldorf, J., Wolf, G.K. (1995). Teilchenstrahlgestützte Verfahren. In: Kienel, G., Röll, K. (eds) Vakuumbeschichtung. VDI-Buch. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-57905-9_6
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