Zusammenfassung
Nach herkömmlicher Einteilung gehört das Ionenplattieren mit dem Aufdampfen und der Katodenzerstäubung in die Gruppe der physikalischen Verfahren zur Vakuumbeschichtung, deren Kennzeichen der Materialtransport von der Quelle zum Substrat über die Gasphase ist. Wesentlich für das Ionenplattieren ist der Umstand, daß das Substrat vor der Beschichtung und die sich bildende Schicht während des Aufwachsens einem ständigen Beschuß von geladenen und ungeladenen Teilchen ausgesetzt sind.
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© 1995 Springer-Verlag Berlin Heidelberg
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Gärtner, H. (1995). Ionenplattieren. In: Kienel, G., Röll, K. (eds) Vakuumbeschichtung. VDI-Buch. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-57905-9_4
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