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Feldelektronen-Mikroskopie von Metalloberflächen

  • E. K. Caspary
  • E. Krautz
  • G. Pankow
  • Ferdinand Stangler
  • A. Komar
  • V. Schrednik
  • M. Drechsler
  • R. Vanselow
  • T. Hibi
  • K. Ishikawa

Zusammenfassung

Die Bevorzugung des Wolframs bei Feldelektronenemissionsuntersuchungen ist im wesentlichen auf seine sehr günstigen vakuumtechnischen Eigenschaften und seine sehr hohe Zerreißfestigkeit zurückzuführen. Wolfram hat unter den Metallen nicht nur den höchsten Schmelzpunkt, sondern zeichnet sich zugleich durch besonders niedrigen Dampfdruck aus, so daß die Entgasung und Oberflächenreinigung relativ leicht durchzuführen sind. Seine bemerkenswert hohe Zerreißfestigkeit erlaubt überdies die Anwendung sehr hoher elektrischer Feldstärken, was sich für die Desorption, Feldverdampfung, Feldionisation und ionenmikroskopische Abbildung größerer Oberflächenbereiche als sehr günstig erweist.

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Copyright information

© Springer-Verlag OHG. Berlin · Göttingen · Heidelberg 1960

Authors and Affiliations

  • E. K. Caspary
    • 1
  • E. Krautz
    • 1
  • G. Pankow
    • 2
  • Ferdinand Stangler
    • 3
  • A. Komar
    • 4
  • V. Schrednik
    • 4
  • M. Drechsler
    • 2
  • R. Vanselow
    • 2
  • T. Hibi
    • 5
  • K. Ishikawa
    • 5
  1. 1.OSRAM-StudiengesellschaftAugsburgDeutschland
  2. 2.Fritz-Haber-InstitutMax-Planck-GesellschaftBerlin-DahlemDeutschland
  3. 3.II. Physikalisches InstitutUniversität WienÖsterreich
  4. 4.Physico-Technical InstituteAcad. of Science USSRLeningradUSSR
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