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Halbleiterbauelemente

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Halbleiter-Leistungsbauelemente
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Zusammenfassung

Bei der pin-Diode steht das „i“ für intrinsisch. Intrinsische Dotierungen (Dotierung im Bereich < 1010 cm 3) lassen sich technologisch jedoch nicht erreichen, sodass man in der Praxis eine schwache p – oder n- – Dotierung erhalten wird. Diese ist gegenüber denen in den Außenzonen um mehrere Größenordnungen niedriger (n-, p), weswegen sich dennoch die Bezeichnung „i“ eingebürgert hat. Heute werden nur Mittelgebiete vom n- Typ realisiert, was hauptsächlich auf das Ausschaltverhalten der damit realisierten Dioden zurückzuführen ist. Das sog. „i“-Gebiet ist in Wirklichkeit meist ein n- – Gebiet.

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Notes

  1. 1.

    Strenggenommen muss zwischen dem Gleichstromverstärkungsfaktor \(A={{I}_{C}}/{{I}_{E}}\) und dem Kleinsignalverstärkungsfaktor \( \alpha ={\Delta {{I}_{C}}}/{\Delta {{I}_{E}}} \) unterschieden werden. Dasselbe gilt für β. Dies ist in dieser vereinfachten Behandlung vernachlässigt.

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© 2012 Springer-Verlag Berlin Heidelberg

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Lutz, J. (2012). Halbleiterbauelemente. In: Halbleiter-Leistungsbauelemente. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-29796-0_3

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