Modifizierung von Oberflächen durch Elektronenstrahl-Verfahren

  • René A. Haefer
Chapter
Part of the WFT Werkstoff-Forschung und -Technik book series (WFT, volume 6)

Zusammenfassung

Elektronenstrahlverfahren haben in den letzten zwei Jahrzehnten eine erhebliche industrielle Bedeutung auf den Gebieten Schmelzen, Verdampfen und Wärmebehandeln von Materialien, Mikrobearbeitung von Oberflächen und strahlenchemische Umwandlung von Schichten erlangt. Alle diese Verfahren nutzen die einzigartigen Eigenschaften von Elektronenstrahlen, nämlich

  • die Möglichkeit, freie Elektronen in elektrischen Feldern auf nahezu beliebige Energie zu beschleunigen,

  • Strahlströme im Bereich < 1 nA bis mehr als 100 A zu erzeugen,

  • Elektronenstrahlen durch magnetische und elektrische Felder bis herab zu Brennfleckdurchmessern im nm-Bereich zu fokussieren,

  • Elektronenstrahlen in magnetischen und elektrischen Feldern praktisch trägheitslos abzulenken,

  • Leistungsdichten im Strahlfokus bis zu mehr als 109 W cm-2 zu erzeugen,

  • die Elektronenbestrahlung kontinuierlich oder in Impulsen der Dauer 10 ≤ t p ≤ 10 ms, sowie unter relativer Bewegung zwischen Strahl und Werkstück auszuführen,

  • die Elektronenenergie am Strahlauftreffort in einem engbegrenzten Volumen umzusetzen, und schließlich

  • die Erzeugung und Führung der Elektronenstrahlen mit rein elektrischen Mitteln durch Wahl der Prozeßparameter, wie Elektronenenergie, Strahlstrom, Strahldurchmesser, Strahlauftreffort, Impulsdauer und Impulsfolgefrequenz prozeßgesteuert in automatisierten Anlagen auszuführen.

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Copyright information

© Springer-Verlag Berlin, Heidelberg 1991

Authors and Affiliations

  • René A. Haefer
    • 1
    • 2
  1. 1.Institut für FestkörperphysikTechnischen Universität GrazÖsterreich
  2. 2.Konzerngruppe Physikalische GrundlagenGebrüder Sulzer AGWinterthurSchweiz

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