References
T. Yamamoto, T. Shiosaki and A. Kawabata, J. Appl. Phys. 51 (1980) 3113.
R. Ondo-Ndong, F. Pascal-Delannoy, A. Boyer, A. Giani and A. Foucaran, Mater. Sci. Eng. B 97 (2003) 68.
J.-H. Lee, K.-H. Ko and B.-O. Park, J. Cryst. Growth 247 (2003) 119.
R. Ayouchi, F. Martin, D. Leinen and J. R. ramos-barrado, ibid. 247 (2003) 497.
B. J. Lokhande, P. S. Patil and M. D. Uplane, Mater. Lett. 57 (2002) 573.
J. N. Zeng, J. K. Low, Z. M. Ren, T. Liew and Y. F. Lu, App. Surf. Sci. 197 (2002) 362.
H. Kim, J. S. Horwitz, S. B. Qadri and D. B. Chrisey, Thin Solid Film 420 (2002) 107.
S. W. Whangbo, H. K. Jang, S. G. Kim, M. H. Cho, K. H. Jeong and C. N. Whang, J. Korean Phys. Soc. 37 (2000) 456.
B. S. Li, Y. C. Liu, D. Z. Shen, J. Y. Zhang, Y. M. Lu and X. Q. Fan, J. Cryst. Growth 249 (2003) 179.
A. Yamada, B. Sang and M. Konagai, Appl. Surf. Sci. 112 (1997) 216.
X. L. Xu, S. P. Lau, J. S. Chen, Z. Sun, B. K. Tay and J. W. Chai, Mater. Sci. Semicon. Proc. 4 (2001) 617.
G. Gordillo and C. Calderon, Solar Energy Mater. Solar Cells 69 (2001) 251.
G. Du, J. Wang, X. Wang, X. Jiang, S. Yang, Y. Ma, W. Yan, D. Gao, X. Liu, H. Cao, J. Xu and R. P. H. chang, J. Cryst. Growth 243 (2003) 439.
K. Iwata, P. Fons, S. Niki, A. Yamada, K. Matsubara, K. Nakahara, T. Tanabe and H. Takasu, ibid. 214/215 (2000) 50.
S. Guha and N. A. bojarczuk, Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 1487.
Author information
Authors and Affiliations
Rights and permissions
About this article
Cite this article
Kim, K.S., Kim, H.W. & Kim, N.H. Growth of ZnO thin film on SiO2 substrates by the RF magnetron sputtering method. Journal of Materials Science Letters 22, 1155–1156 (2003). https://doi.org/10.1023/A:1025131212403
Issue Date:
DOI: https://doi.org/10.1023/A:1025131212403