References
R. M. Fix, R. G. Gordon and D. M. Hoffman, US Patent 5,139,825 (1991).
R. G. Gordon, D. M. Hoffman and U. Riaz, US Patent 5,178,911 (1993).
R. M. Fix, R. G. Gordon and D. M. Hoffman, Mat. Res. Soc. Symp. 168 (1990) 357.
D. M. Hoffman, Polyhedron 13 (1994) 1169.
R. M. Fix, R. G. Gordon and D. M. Hoffman, Chem. Mater. 3 (1991) 1138.
Idem., ibid. 5 (1993) 614.
R. G. Gordon, D. M. Hoffman and U. Riaz, J. Mater. Res. 7 (1992) 1679.
Idem., MRS Symp. Proc. 242 (1992) 445.
Idem., Chem. Mater. 2 (1990) 480.
L. M. Atagi, D. M. Hoffman, J.-R. Liu, Z. Zheng, W.-K. Chu, R. R. Rubiano, R. W. Springer and D. C. Smith, ibid. 6 (1994) 360.
A. Bastianini, G. A. Battiston, R. Gerbasi, M. Porchia and S. Daolio, J. de Phys. IV 5 (1995) 525.
T. Tabuchi, Y. Sawado, K. Uematsu and S. Koshiba, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) L1974.
F. T. J. Smith, Appl. Phys. lett. 43 (1983) 1108.
A. P. Roth and D. F. Williams, J. Appl. Phys. 52 (1981) 6685.
K. Tabuchi, W. W. Wenas, A. Yamada, M. Konagai and K. Takahashi, Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 3764.
J. Hu and R. G. Gordon, J. Appl. Phys. 72 (1992) 5381.
A. Yamada, W. W. Wenas, M. Yoshino, M. Konagai and K. Takahashi, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) L1152.
T. Maruyama and A. Nakai, ibid. 28 (1989) L346.
M. Shimizu, T. Katayama, T. Shiosaki and A. Kawabata, J. Cryst. Growth 99 (1990) 399.
J. Hu and R. G. Gordon, J. Appl. Phys. 71 (1992) 880.
W. Wieldraaijer, J. Van Balen Blanken and E. W. Kuipers, J. Cryst. Growth 126 (1993) 305.
P. Souletie, S. Bethke, B. W. Wessels and H. Pan, ibid. 86 (1988) 248.
G. L. Mar, P. Y. Timbrell and R. N. Lamb, Chem. Mater. 7 (1995) 1890.
K. Kobayashi, T. Matsubara, S. Matsushima, S. Shirakata, S. Isomura and G. Okada, Thin Solid Films 266 (1995) 106.
T. Maruyama and J. Shionoya, J. Mater. Sci. Lett. 11 (1992) 170.
T. Minami, H. Sato, H. Sonohara, S. Takata, T. Miyata and I. Fukuda, Thin Solid Films 253 (1994) 14.
K. Kamata, J. Nishino, S. Ohshio, K. Maruyama and M. Ohtuki, J. Am. Ceram. Soc. 77 (1994) 505.
T. Minami, H. Sonohara, S. Takata and H. Sato, Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) L743.
H. Sato, T. Minami, T. Miyata, S. Takata and M. Ishii, Thin Solid Films 246 (1994) 65.
Y. Natsume, H. Sakata, T. Hirayama and H. Yanagida, J. Appl. Phys. 72 (1992) 4203.
N. D. Kumar, M. N. Kamalasanan and S. Chandra, Appl. Phys. lett. 65 (1994) 1373.
J. Auld, D. J. Houlton, A. C. Jones, S. A. Rushworth, M. A. Malik, P. O'brien and G. W. Critchlow, J. Mater. Chem. 4 (1994) 1249.
S. Suh, D. M. Hoffman, L. M. Atagi and D. C. Smith, J. Mater. Sci. Lett. 18 (1999) 789.
W. S. Rees, Jr., O. Just, H. Schumann and R. Weimann, Polyhedron 17 (1998) 1001.
L-J. Meng, C. P. Moreira De SÁ and M. P. Dos Santos, Appl. Surf. Sci. 78 (1994) 57.
C. T. Au, M. W. Roberts and A. R. Zhu, Surface Sci. 115 (1982) L117.
L. G. Mar, P. Y. Timbrell and R. N. Lamb, Thin Solid Films 223 (1993) 341.
M. N. Islam, T. B. Ghosh, K. L. Chopra and H. N. Acharya, ibid. 280 (1996) 20.
J. S. Kim, H. A. Marzouk, P. J. Reucroft and C. E. Hamrin, Jr., ibid. 217 (1992) 133.
M. Grunze, W. Hirschwald and D. Hofmann, J. Crystal Growth 52 (1981) 241.
C. Battistoni, J. L. Dormann, D. Fiorani, E. Paparazzo and S. Viticoli, Solid State Commun. 39 (1981) 581.
Author information
Authors and Affiliations
Rights and permissions
About this article
Cite this article
Suh, S., Mîinea, L.A., Hoffman, D.M. et al. Atmospheric pressure chemical vapor deposition of undoped zinc oxide films from a zinc amide precursor. Journal of Materials Science Letters 20, 115–118 (2001). https://doi.org/10.1023/A:1006777915520
Issue Date:
DOI: https://doi.org/10.1023/A:1006777915520