References
D. G. DEPPE, L. J. GUIDO, N. HOLONYAK JR., K. C. HSIEH, R. D. BURNHAM, R. L. THORTON and T. L. PAOLI, Appl. Phys. Lett. 49 (1986) 510.
H. RIBOT, K. W. LEE, R. J. SIMES, R. H. YAN and L. A. COLDREN, ibid. 55 (1989) 672.
D. HOFSTETTER, H. P. ZAPPE, J. E. EPLER and P. RIEL, ibid. 67 (1995) 1978.
J. H. LEE, S. K. SI, Y. B. MOON, E. J. YOON and S. J. KIM, Electron. Lett. 33 (1997) 1179.
W. J. CHOI, S. LEE, Y. KIM, S. H. KIM, J. I. LEE, K. N. KANG, N. PARK, H. L. PARK and K. CHO, J. Mater. Sci. Lett. 14 (1995) 1433.
I. GONTIJO, T. KRAUSS, J. H. MARSH and R. M. DE LA RUE, IEEE J. Quantum Electron. 30 (1994) 1189.
E. L. ALLEN, C. J. PASS, M. D. DEAL, J. D. PLUMMER and V. F. K. CHIA, Appl. Phys. Lett. 59 (1991) 3252.
Y. SUZUKI, H. IWAMURA, T. MIYAZAWA and O. MIKAMI, ibid. 57 (1990) 2745.
I. J. PAPE, P. L. KAM WA, J. P. R. DAVID, P. A. CLAXTON, P. N. ROBSON and SYKES, Electron. Lett. 24 (1988) 910.
Author information
Authors and Affiliations
Rights and permissions
About this article
Cite this article
Yi, H.T., Cho, J., Choi, W.J. et al. Dependence of quantum well disordering of InGaAs/InGaAsP quantum well structures on the various combinations of semiconductor-dielectric capping layers. Journal of Materials Science Letters 19, 835–836 (2000). https://doi.org/10.1023/A:1006716910637
Issue Date:
DOI: https://doi.org/10.1023/A:1006716910637