References
A. Y. Liuand M. L. Cohen, Science 245(1989) 841.
K. Y. Yu, M. L. Cohen, E. E. Haller, W. L. Hansen, A. Y. Liuand I. C. Wu, Phys. Rev. B 49(1994) 5034.
H. Sjostrom, S. Stafstrom, M. Bomanand J. E. Sundgren, Phys. Rev. Lett. 75(1995) 1336.
C. Niu, Y. Z. Luand C. M. Lieber, Science 261(1993) 334.
D. Darton, K. J. Boyd, A. H. Albayati, S. S. Todorovand J. W. Rabalais, Phys. Rev. Lett. 73(1994) 118.
K. M. Yu, M. L. Cohen, E. E. Haller, W. L. Hansen, A. Y. Linand I. C. Wu, Phys. Rev. B 49(1994) 5034.
A. R. Merchant, D. R. Mcculloch, Mckenzie, Y. Yin, L. Halland E. G. Gerstner, J. Appl. Phys. 79(1996) 6914.
A. Bousetta, M. Lu, A. Bensaoulaand A. Schultz, Appl. Phys. Lett. 65(1994) 696.
H. Wang, M. R. Shen, Z. Y. Ning, C. Ye, C. B. Cao, H. Y. Dangand H. S. Zhu, ibid. 69(1996) 1074.
Ming-rong Shen, Zhao-qiang Gan, Shuibing Ge and Yu Xin, Thin Solid Films(in press)
R. Kaltofen, T. Sebaldand G. Weise, ibid. 308± 309(1997) 118.
J. H. Kaufman, S. Metinand D. D. Saperstein, Phys. Rev. B 39(1989) 13053.
P. Hammer, M. A. Baker, C. Lenardiand W. Gissler, Thin Solid Films 290± 291(1996) 107.
C. W. Ong, X.-A. Zhao, Y. C. Tsang, C. L. Choyand P. W. Chan, J. Mater. Sci. 32(1997) 2347.
S. Kobayashi, S. Nozaki, H. Morisaki, S. Fukuiand S. Masaki, Thin Solid Films 281± 282(1996) 289.
M. Chhowalla, I. Alexandron, C. Kiely, G. A. J. Amaratunga, R. Aharonovand R. F. Fontana, ibid. 290± 291(1996) 103.
Author information
Authors and Affiliations
Rights and permissions
About this article
Cite this article
Shen, MR., Xu, QA. & Lu, XH. Amorphous Carbon Nitride Thin Films Deposited by Electrolysis of Methanol and Urea Organic Solutions. Journal of Materials Science Letters 18, 317–319 (1999). https://doi.org/10.1023/A:1006639524959
Issue Date:
DOI: https://doi.org/10.1023/A:1006639524959