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Simulation des reaktiven Magnetron- Sputterprozesses in Inline-Anlagen

  • Dünne Schichten
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JOT Journal für Oberflächentechnik Aims and scope

Zusammenfassung

Das reaktive Magnetronsputtern von optischen Schichten stellt eine industriell etablierte Beschichtungstechnologie dar, die sich durch hohe Produktivität und exzellente Schichteigenschaften auszeichnet. Dennoch besteht Bedarf fär weitreichende Optimierungen. Probleme resultieren vor allen aus den folgenden Bereichen: Schlechte Übertragbarkeit von Laborergebnissen auf Produktionsanlagen, hohe Kosten durch aufwändige Technologie und geringe Beschichtungsraten sowie eingeschränkte Produktqualität bei Spezialanwendungen, wie zum Beispiel der Festmaß- anstelle der Bandmaß-Beschichtung von Architekturglas. Gerade die wirtschaftlich hoch attraktive Prozessführung im Bereich instabiler Prozessparameter („Transition Mode“) erweist sich als industriell nur sehr schwer umsetzbar.

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Literatur

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Authors and Affiliations

  1. Fraunhofer Institut für Schicht- und Oberflächentechnik, Braunschweig

    Andreas Pflug,  Bernd Szyszka & Jan Niemann

Authors
  1. Andreas Pflug
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  2. Bernd Szyszka
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  3. Jan Niemann
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Pflug, A., Szyszka, B. & Niemann, J. Simulation des reaktiven Magnetron- Sputterprozesses in Inline-Anlagen. J Oberfl Techn 43, X–XIII (2003). https://doi.org/10.1007/BF03251083

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  • DOI: https://doi.org/10.1007/BF03251083

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