High-temperature thermal analysis study of the reaction between magnesium oxide and silica

Abstract

The reaction between SiO₂ and MgO at temperatures up to 1500°C was studied using thermal analysis, with X-ray diffraction being used to identify reaction products. The reaction is slow and results in the formation of Mg₂SiO₄ and MgSiO₃, with minor amounts of SiO₂·nH₂O and residual amounts of unreacted SiO₂ and MgO. Complete reaction of the starting materials to form Mg₂SiO₄ can only be achieved by maintaining the mixture at 1500°C for extended periods of time (>1 h).

Zusammenfassung

Mittels Thermoanalyse und Röntgendiffraktion (zur Identifizierung der Reaktionsprodukte) wurde die Reaktion zwischen SiO₂ und MgO bei Temperaturen bis zu 1500°C untersucht. Es handelt sich um eine langsam verlaufende Reaktion, welche neben geringen Mengen von SiO₂·nH₂) und unreagierten Restmengen von SiO₂ und MgO die Bildung von Mg₂SiO₄ und MgSiO₃ zur Folge hat. Eine vollständige Reaktion des Ausgangsmateriales zu Mg₂SiO₄ kann nur durch ein längeres (1 h) Behandeln der Probe bei 1500°C erreichen.