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Le dosage de l'oxygene au moyen de particules chargees dans le silicium et le germanium. Mises au point relatives aux reactions parasites et a l'isolement du fluor-18

  • Dosage de Quelques Eléments dans les Matériaux Semi-conducteurs
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Résumé

Le dosage de l'oxygène par radioactivation avec les particules chargées alphas et hélions-3 a été appliqué au silicium et au germanium. Des précisions ont été apportées aux conditions opératoires en analyse non destructive qui est utilisable à l'heure actuelle en toute sécurité pour le silicium. Une méthode nouvelle d'isolement du fluor-18 est proposée en présence des activités étrangères créées à partir de la matrice dans l'irradiation du germanium.

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Authors and Affiliations

  1. Institut de Physique Nucléaire, Université Claude Bernard de Lyon 43, Bd du 11 november 1918, 69-Villeurbanne, (France)

    J. Giroux & J-P. Thomas

Authors
  1. J. Giroux
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  2. J-P. Thomas
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Giroux, J., Thomas, JP. Le dosage de l'oxygene au moyen de particules chargees dans le silicium et le germanium. Mises au point relatives aux reactions parasites et a l'isolement du fluor-18. J. Radioanal. Chem. 19, 129–138 (1974). https://doi.org/10.1007/BF02515272

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  • DOI: https://doi.org/10.1007/BF02515272

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