Il Nuovo Cimento D

, Volume 7, Issue 4, pp 506–512 | Cite as

Effect of an external electric field on two-dimensional nucleation

  • R. Dhanasekaran
  • P. Ramasamy


Two-dimensional nuclei of different possible shapes are considered in the presence of an external electric field which is applied either perpendicular or parallel to the nucleation surface. The additional driving force needed for the formation of a nucleus due to the electric field is found and used in the nucleation theory. The results show that the electric field can either stimulate or inhibit the nucleation process depending on the ratio of the dielectric constants and the orientation of the applied electric field with respect to the nucleation surface. The dependence of the two-dimensional nucleation rate on the intensity of electric field is also determined.

PACS. 81.10

Methods of crystal growth and purification 


Si considerano nuclei bidimensionali di differenti forme possibili in presenza di un campo elettrico esterno che è applicato sia perpendicolare che parallelo alla superficie di nucleazione. Si trova e si usa nella teoria di nucleazione l’ulteriore forza guida necesaria per la formazione di un nucleo a causa del campo elettrico. I risultati mostrano che il campo elettrico può sia stimolare che inibire il processo di nucleazione che dipende dal rapporto delle costanti dielettriche e dell’orientamento del campo elettrico applicato rispetto alla superficie di nucleazione. Si determina anche la dipendenza del valore di nucleazione bindimensionale dall’intensità del campo elettrico.


Рассматриваются двумерные ядра различных возможиых форм в присутствии внешнего электрического поля, которое либо перпендикулярно, либо параллельно поверхности вародышеобразования. Определяется и используется в теории зародяшеобразования дополнительная движущая сила, необходимая для образования ядра, всл⪟дствие действия электрического поля. Полученные результатя показяают, что электрическое поле может либо стимулировать, либо тормозить процесс зародышеобразования в зависимости от отношения диэлектричеких постоянных и от ориентации приложенного электричеслог поля отнонительно поверхности зародышеодразования. Такзе определяется зависимость скорости образвания двумерных ядер от интенсивности электрического поля.


Unable to display preview. Download preview PDF.

Unable to display preview. Download preview PDF.


  1. (1).
    J. W. Mullin:Crystallisation (London, 1972).Google Scholar
  2. (2).
    M. Ohara andR. C. Reid:Modeling Crystal Growth Rates from Solution (Englewood Cliffs, N. J., 1973).Google Scholar
  3. (3).
    J. C. Brice:J. Cryst. Growth,1, 218 (1967).CrossRefGoogle Scholar
  4. (4).
    D. Kaschiev:J. Cryst. Growth,13–14, 128 (1972).CrossRefGoogle Scholar
  5. (5).
    J. A. Strattion:Electromagnetic Theory (New York, N. Y., 1941)Google Scholar
  6. (6).
    Personal communication from the referee of ilNuovo Cimento for the first version of this paper.Google Scholar
  7. (7).
    R. Dhanasekaran: Ph.D. Thesis (Anna University, Madras, India, 1984).Google Scholar
  8. (8).
    R. Dhanasekaran andP. Ramasamy:J. Colloid Interface Sci.,91, 292 (1983).CrossRefGoogle Scholar
  9. (9).
    R. Dhanasekaran andP. Ramasamy:J. Colloid Interface Sci.,83, 623 (1981).CrossRefGoogle Scholar
  10. (10).
    S. Vasudevan, S. Nagalingam, R. Dhanasekaran andP. Ramasamy:Cryst. Res. Technol.,16, 293 (1981).Google Scholar

Copyright information

© Società Italiana di Fisica 1986

Authors and Affiliations

  • R. Dhanasekaran
    • 1
  • P. Ramasamy
    • 1
  1. 1.Crystal Growth CentreAnna UniversityMadrasIndia

Personalised recommendations