Studium der Stationären und Laufenden Schichtung in der Entladung in Neon Mit Hilfe eines Lokalen Hochfrequenzfeldes

Zusammenfassung

Es wurde ein Verfahren zur Erregung von stationären Schichten, der Schichtungswelle und der laufenden Schichten in der Gleichstromentladung ausgearbeitet, das auf der Einwirkung eines Hochfrequenzfeldes auf einen kurzen Abschnitt der positiven Säule beruht. Dieses Verfahren wurde zum Studium aller drei angeführten Schichtungsarten in Neon benützt, insbesondere jedoch zum Studium des Zusammenhanges zwischen den laufenden und den stationären Schichten.

Bei stationären Schichten wurden zweifache Strukturen festgestellt und es wurde deren Abhängigkeit vom Entladungsstrom und von der Größe des erregenden Hochfrequenzfeldes verfolgt.

Bei der Schichtungswelle wurde die Stelle deren Entstehung ermittelt und es wurde nachgewiesen, daß das Hochfrequenzfeld diese Welle lokal an der Stelle dessen Einwirkung auf die positive Säule hervorruft.

Bei den laufenden Schichten wurde deren Resonanzfrequenz in Abhängigkeit vom Entladungsstrom und die Abhängigkeit der Wellenlänge der Schichten von der Frequenz untersucht.

Es wurde festgestellt, daß der extrapolierte Wert der Wellenlänge für die Nullfrequenz erheblich niedriger ist als die Länge der stationären Schichten. Weiter wurde eine Übereinstimmung der Frequenz der laufenden Schichten in der Schichtungswelle mit der Resonanzfrequenz der künstlich hervorgerufenen laufenden Schichten festgestellt.

Abstract

Был разработан метод возбуждения стацион арных слоев, волны расслоения и по движных слоев в разряде при по стоянном токе, основа нный на воздействии высокоч астотного поля на короткий отрезок п оложительного столб а. Этот метод применялся для иссле дования всех трех упомянутых типов расслоения в не оне, особенно для исследо вания взаимосвязи между подвижными и ст ационарными слоями.

У стационарных слоев была найдена двойная структура и была исследована её з ависимость от тока разрядом и от в еличины возбуждающе го высокочастотного по ля.

У волны расслоения ис следовалось место ее возникновения и было доказано, что высокоч астотное поле возбуждает эту в олну локально в месте своего воздействия на полож ительный столбец.

У подвижных слоев исс ледовалась их резона нсная частота в зависимост и от тока разрядом и зависимость длины в олны от частоты.

Было установлено, что экстраполированное значение длины волны для нулев ой частоты получается намного м еньше чем длина волны стационарных слоев. Д алее, было установлен о согласие между часто той подвижных слоев в волне расслоения и резонан сной частотой искусс твенно возбуждаемых подвиж ных слоев.