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Molekulare und technische Durchschlagsfeldstärke fester elektrischer Isolatoren

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  1. W. Rogowski
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Die Ausführungen über die molekulare Durchschlagsspannung habe ich zuerst Februar 1925 auf der Gautagung in Aachen, später in der Maisitzung 1925 der Technisch-physikalischen Gesellschaft in Berlin vorgetragen (vgl. Zeitschrift für technische Physik 1925, S. 197). Bereits damals wies ich auf die nahe Verwandtschaft zwischen molekularer Durchschlagsfeldstärke und „molekularer“ Festigkeit hin. Die Beziehung zum Schmelzvorgang (vgl. S. 145) wurde ebenfalls bereits damals betont.

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Rogowski, W. Molekulare und technische Durchschlagsfeldstärke fester elektrischer Isolatoren. Archiv f. Elektrotechnik 18, 123–166 (1927). https://doi.org/10.1007/BF01656668

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  • DOI: https://doi.org/10.1007/BF01656668

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