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Zur Elektronenempfindlichkeit verschiedener photographischer Schichten

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Zeitschrift für Physik

Zusammenfassung

Die zunehmende Bedeutung der Elektronenmikroskopie lenkt die Aufmerksamkeit auf die Frage nach geeignetem Aufnahmematerial. Die vorliegende Arbeit berichtet über einige Vergleiche an photographischen Schichten der Agfa, die in einer Siemens-Apparatur bestrahlt wurden.

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Authors and Affiliations

  1. Wissenschaftlichen Zentral-Laboratorium der Photographischen Abteilung der I. G. Farbenindustrie A.-G. (Agfa), Deutschland

    H. P. Nissen

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  1. H. P. Nissen
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Nissen, H.P. Zur Elektronenempfindlichkeit verschiedener photographischer Schichten. Z. Physik 122, 573–588 (1944). https://doi.org/10.1007/BF01342776

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  • DOI: https://doi.org/10.1007/BF01342776

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