Fluorkomplexe des Siliciums in wäßriger Lösung, 2. Mitt.: Bildung und Eigenschaften der Tetrafluorokieselsäure

Zusammenfassung

Der SiF₄-Partialdruck stark saurer Flurosilikatlösungen wurde als Funktion verschiedener Parameter (Si:F-Verhältnis, Gesamtkonzentration von Fluor, Wasseraktivität, Acidität, Temperatur) gemessen. Die Meßergebnisse liefern Hinweise auf Bildung und Eigenschaften der Siliciumtetrafluorokomplexe. Diese entstehen in hoher Ausbeute beim Sättigen stark saurer Fluorosilikatlösungen mit SiO₂. Sie enthalten 2 Mol H₂O/Mol SiF₄ und können daher als SiF₄·2 H₂O aufgefaßt werden. Siliciumtetrafluorid-Dihydrat verhält sich wie eine starke Säure. Erwartungsgemäß ist seine Stabilität geringer als die des entsprechenden Ammoniakadduktes.

Abstract

The SiF₄ partial pressures of strongly acidified fluorosilicate solutions has been measured as a function of various parameters (Si:F ratio, total concentration of fluorine, water activity, acidity, temperature). The experimental data provide information on formation and properties of the silicon tetrafluoro complexes. Tetrafluorosilicon complexes are formed in high yield when hexafluorosilicate solutions are saturated with silica at high acid concentrations. They contain 2 moles H₂O per mole SiF₄; their formula can be written as SiF₄·2 H₂O. Silicon tetrafluoride dihydrate behaves like a strong acid. As to be expected, it is less stable than the corresponding ammonia adduct.