Zusammenfassung
Bei der röntgenographischen Untersuchung des Systems Tantal-Silizium werden nachstehende intermediäre Kristallarten gefunden:
Ta4,5±0,5Si kristallisiert mit den Gitterkonstanten:a=6,093;c=4,909 k X·E undc/a=0,806 im D 019-Typ.
Ta2Si ist mit der C 16-Struktur isotyp.a=6,145;c=5,029 k X·E undc/a=0,818.
Ta5Si3 hat D 88-Struktur mit den Gitterkonstanten:a=7,459;c=5,215 k X·E undc/a=0,699. Diese Phase ist vermutlich dimorph. Die Hochtemperaturstruktur wurde noch nicht aufgeklärt.
Die Struktur von TaSi2 kann bestätigt werden. Tantal löst unter Gitteraufweitung weniger als 0,2% Si bei 1800° C.
Silizium vermag kein Tantal in fester Lösung aufzunehmen.
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Nowotny, H., Schachner, H., Kieffer, R. et al. Röntgenographische Untersuchungen im System Tantal-Silizium. Monatshefte für Chemie 84, 1–12 (1953). https://doi.org/10.1007/BF00899117
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