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Fresenius' Zeitschrift für analytische Chemie

, Volume 256, Issue 5, pp 349–351 | Cite as

Direkte infrarotspektrographische Untersuchung dünnschicht-chromatographisch getrennter Fraktionen nach Entfernung der Adsorbensschicht aus SiO2 durch Flußsäure

  • Klaus Beyermann
  • Johannes Dietz
Originalabhandlungen

Zusammenfassung

Durch Behandlung mit Flußsäuredämpfen kann die SiO2-Adsorbensschicht von Dünnschichtplatten innerhalb weniger Minuten vollständig entfernt werden. Die chromatographisch getrennten Stoffe gehen dabei nur zu etwa 10–20% verloren. Sie hinterbleiben auf der Aluminium-Trägerplatte, die direkt als Spiegel für die Infrarotreflexionsspektroskopie dienen kann. Es gelingt so ein direkter infrarotspektrographischer Nachweis ohne Notwendigkeit eines Transfers. Voraussetzung für die Anwendbarkeit ist, daß die nachzuweisenden Stoffe nicht flüchtig sind oder durch die Flußsäurebehandlung chemisch verändert werden.

Thin-layer chromatography and detection of separated materials by infrared spectroscopy directly on the plate after volatilization of the silica adsorbent by means of hydrogen fluoride

Abstract

The silica adsorbent layer of thin layer plates is volatilized within a few minutes by fuming with hydrogen fluoride. Materials that have been separated by chromatography are recovered with yields from 80 to 90%. Substances are thus retained at the aluminium carrier plate. It serves as a mirror for infrared reflectance spectroscopy. Thus a detection is possible without the necessity of a transfer. The procedure should not be applied to volatile substances or materials that may be altered by the treatment with hydrogen fluoride.

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Copyright information

© Springer-Verlag 1971

Authors and Affiliations

  • Klaus Beyermann
    • 1
  • Johannes Dietz
    • 1
  1. 1.Institut für Anorganische Chemie und Kernchemie der Universität MainzDeutschland

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