Halbleiteruntersuchungen mit Hilfe radiochemischer Methoden

  • W. Gebauhr
Article

Zusammenfassung

Anhand der in den letzten 12 Jahren im Radiochemischen Laboratorium der Siemens-Schuckertwerke durchgeführten Arbeiten werden verschiedene Möglichkeiten zur Anwendung radiochemischer Methoden bei der Lösung von Problemen aus der Halbleiterentwicklung und -fertigung aufgezeigt. Die durch chemische Auftrennungen erreichbaren höchsten Empfindlichkeitsgrenzen der Aktivierungsanalyse ermöglichen die Erfüllung der sich aus der Inversionsdichte des Halbleiters ergebenden Forderungen an die Analyse. Neben Untersuchungen mit Hilfe der Radioisotopenmarkierung werden auch eine Reihe von Anwendungen der Autoradiographie demonstriert, die vielfach das wichtige Problem der Lokalisierung festgestellter Verunreinigungen zu lösen vermag.

Semiconductor investigations using radiochemical methods

Abstract

By example of work carried out in the Siemens Radiochemistry Laboratory in the past 12 years the author describes various possible applications of radiochemical methods for solving problems in the development and manufacture of semiconductors. The sensitivity limits of activation analysis attainable by chemical separation make it possible to meet the demands of analysis resulting from the intrinsic concentration of the semiconductor. Details are also given of investigations using radio-tracer methods, and of a number of applications of autoradiography. In many instances, autoradiography provides a solution to the important problem of localizing the impurities determined.

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Copyright information

© Springer-Verlag 1969

Authors and Affiliations

  • W. Gebauhr
    • 1
  1. 1.Kerntechnische Laboratorien der Siemens A.G.Erlangen

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