Applied Physics B

, Volume 65, Issue 3, pp 419–421

Nanoscale atomic lithography with a cesium atomic beam

  • F. Lison
  • H.-J. Adams
  • D. Haubrich
  • M. Kreis
  • S. Nowak
  • D. Meschede

2

 line (852 nm) and a width of about 120 nm and covering a large area of approximately 1 mm2.

PACS: 32.80.Pj; 42.50.Vk; 42.82.Cr; 85.40.Ux 

Preview

Unable to display preview. Download preview PDF.

Unable to display preview. Download preview PDF.

Copyright information

© Springer-Verlag 1997

Authors and Affiliations

  • F. Lison
    • 1
  • H.-J. Adams
    • 1
  • D. Haubrich
    • 1
  • M. Kreis
    • 1
  • S. Nowak
    • 2
  • D. Meschede
    • 1
  1. 1.Institut für Angewandte Physik, Universität Bonn, Wegelerstr. 8, D-53115 Bonn, Germany (Fax: +49-228/733474, E-mail: sek@iap.uni-bonn.de)DE
  2. 2.Fakultät für Physik, Universität Konstanz, Universitätsstr. 10, D-78457 Konstanz, GermanyDE

Personalised recommendations