Applied Physics A

, Volume 66, Supplement 1, pp S685–S688 | Cite as

STM writing of artificial nanostructures in ultrathin PMMA and SAM resists and subsequent pattern transfer in a Mo/Si multilayer by reactive ion etching

  • J. Hartwich
  • L. Dreeskornfeld
  • V. Heisig
  • S. Rahn
  • O. Wehmeyer
  • U. Kleineberg
  • U. Heinzmann
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Copyright information

© Springer-Verlag 1998

Authors and Affiliations

  • J. Hartwich
    • 1
  • L. Dreeskornfeld
    • 1
  • V. Heisig
    • 1
  • S. Rahn
    • 1
  • O. Wehmeyer
    • 1
  • U. Kleineberg
    • 1
  • U. Heinzmann
    • 1
  1. 1.Molekül– und Oberflächenphysik, Universität Bielefeld, 33615 Bielefeld, Universitätsstr. 25, Germany (Fax: +49-521/106-6001, E-mail: jessica@hrz.uni–bielefeld.de, ldreesko@hrz.uni–bielefeld.de)DE

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