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BHM Berg- und Hüttenmännische Monatshefte

, Volume 151, Issue 11, pp 441–445 | Cite as

A fundamental contribution to a study of the active screen plasma nitriding process

  • P. Hubbard
  • D. G. McCulloch
  • E. D. Doyle
  • S. J. Dowey
  • J. N. Georges
Originalarbeiten

Abstract

Active Screen Plasma Nitriding (ASPN) is a novel plasma based nitriding process which challenges many of the existing hypotheses concerning mass transfer in plasma nitriding and, in turn, questions the influence of substrate bias during nitriding. In this study, a Field Emission Gun Scanning Electron Microscope analysis was used to investigate material transfer from the active screen. The results demonstrate that material transfer and deposition, in the form of nano-particles, take place from the active screen to parts that are in a direct line of sight of the active screen. The nano-particle distribution is significantly influenced by the type of active screen material used and the application of substrate bias. However, the suggestion that the mechanism of mass transfer in ASPN is directly related to sputtering of material from the active screen is questioned by the observation that AISI H13 steel samples treated in a non line of sight position in the ASPN chamber showed a significantly higher nitriding response than AISI H13 samples treated in direct line of sight of the active screen.

Keywords

Mild Steel Substrate Bias Material Transfer Silicon Sample Nitriding Process 
These keywords were added by machine and not by the authors. This process is experimental and the keywords may be updated as the learning algorithm improves.

Ein grundlegender Beitrag über eine Studie zum Plasmanitrieren mit einem Aktivgitter

Zusammenfassung

Active Screen Plasma Nitriding (ASPN) oder Plasmanitrieren mit einem Aktivgitter ist ein neuer plasmaunterstützter Nitrierprozess, welcher die üblichen Erklärungsmodelle betreffend die Nitiriervorgänge beim Plasmanitrieren herausfordert und den Einfluss der Substratspannung während des Nitrierens infrage stellt. In dieser Untersuchung wurde die Feldemissions-Rasterelektronenmikroskopie-Analyse herangezogen, um den Materialtransport vom aktiven Gitter zum Werkstück zu untersuchen. Die Ergebnisse zeigen eindeutig, dass ein Materialtransfer in der Form von Nano-Partikeln vom aktiven Gitter hin zu jenen Werkstücken stattfindet, welche dem Schirm direkt gegenüberliegen. Die Verteilung der Nano-Partikel wird durch die Auswahl des Gittermaterials und die angelegte Substratspannung signifikant beeinflusst. Trotzdem muss der bislang vermutete Mechanismus des Massentransfers bei ASPN als Sputterprozess von Gittermaterial infrage gestellt werden. Dies beruht auf der Beobachtung an AISI-H13 Stahlproben, welche zum aktiven Gitter nicht in Sichtkontakt positioniert waren und welche eine deutlich höhere Nitrierwirkung aufwiesen als Proben, die in direktem Sichtkontakt zum aktiven Schirm standen.

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References

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Copyright information

© Springer 2006

Authors and Affiliations

  • P. Hubbard
    • 2
  • D. G. McCulloch
    • 2
  • E. D. Doyle
    • 1
  • S. J. Dowey
    • 3
  • J. N. Georges
    • 4
  1. 1.Swinburne UniversityHawthornMelbourneAustralia
  2. 2.RMIT UniversityMelbourneAustralia
  3. 3.Surface Technology CoatingsMelbourneAustralia
  4. 4.PlasmaMetalLuxembourgLuxembourg

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