Applied Physics B

, Volume 78, Issue 7, pp 983–988

Recent developments in X-UV optics and X-UV diagnostics

Authors

    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
  • Ph. Balcou
    • Laboratoire d’Optique Appliquée, ENSTAChemin de La Hunière
  • S. Bucourt
    • Imagine Optic
  • F. Delmotte
    • CNRS-UMR 8501Laboratoire Charles Fabbry de l’Institut d’Optique
  • G. Dovillaire
    • Imagine Optic
  • D. Douillet
    • Laboratoire d’Optique Appliquée, ENSTAChemin de La Hunière
  • J. Dunn
    • Lawrence Livermore National Laboratory
  • G. Faivre
    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
  • M. Fajardo
    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
  • K.A. Goldberg
    • Center for X-ray OpticsLawrence Berkeley National Laboratory
  • S. Hubert
    • Laboratoire d’Optique Appliquée, ENSTAChemin de La Hunière
    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
  • J.R. Hunter
    • Lawrence Livermore National Laboratory
  • M. Idir
    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
  • S. Jacquemot
    • Commissariat á l’Énergie Atomique
  • S. Kazamias
    • Laboratoire d’Optique Appliquée, ENSTAChemin de La Hunière
  • S. le Pape
    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
  • X. Levecq
    • Imagine Optic
  • C.L.S. Lewis
    • School of Mathematics and PhysicsThe Queen’s University of Belfast
  • R. Marmoret
    • Commissariat á l’Énergie Atomique
  • P. Mercère
    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
  • A.S. Morlens
    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
  • P.P. Naulleau
    • Center for X-ray OpticsLawrence Berkeley National Laboratory
  • M.F. Ravet
    • CNRS-UMR 8501Laboratoire Charles Fabbry de l’Institut d’Optique
  • C. Rémond
    • Commissariat á l’Énergie Atomique
  • J.J. Rocca
    • NSF ERC for Extreme Ultraviolet Science and Technology and Department of Electrical and Computer EngineeringColorado State University
  • R.F. Smith
    • Lawrence Livermore National Laboratory
  • P. Troussel
    • Commissariat á l’Énergie Atomique
  • C. Valentin
    • Laboratoire d’Optique Appliquée, ENSTAChemin de La Hunière
  • L. Vanbostal
    • Laboratoire d’Interaction du rayonnement X avec la MatièreUniversité Paris-Sud
Invited paper

DOI: 10.1007/s00340-004-1430-9

Cite this article as:
Zeitoun, P., Balcou, P., Bucourt, S. et al. Appl Phys B (2004) 78: 983. doi:10.1007/s00340-004-1430-9

Abstract

Metrology of XUV beams (X-ray lasers, high-harmonic generation and VUV free-electron lasers) is of crucial importance for the development of applications. We have thus developed several new optical systems enabling us to measure the optical properties of XUV beams. By use of a Michelson interferometer working as a Fourier-transform spectrometer, the line shapes of different X-ray lasers have been measured with a very high accuracy (Δλ/λ∼10-6). Achievement of the first XUV wavefront sensor has enabled us to measure the beam quality of laser-pumped as well as discharge-pumped X-ray lasers. A capillary discharge X-ray laser has demonstrated a very good wavefront allowing us to achieve an intensity as high as 3×1014 W cm-2 by focusing with a f=5 cm mirror. The sensor accuracy has been measured using a calibrated spherical wave generated by diffraction. The accuracy has been estimated to be as good as λ/120 at 13 nm. Commercial developments are underway. At Laboratoire d’Optique Appliquée, we are setting up a new beamline based on high-harmonic generation in order to start the femtosecond, coherent XUV optic .

Copyright information

© Springer-Verlag 2004